传美国拟禁止中国获取先进晶片设计软件

（华盛顿）外电引述消息报道，拜登政府打算禁止出口半导体开发必需的特定类型设计软件。报道称，白宫将要求商务部发布新规则，事实上禁止出口开发先进全环绕栅极（Gate-All-Around）晶片所需设计软件。

管理和预算办公室正在审查这一限制措施，势将在未来几周内实施。目标是禁止向开发人工智能应用的中国公司出售此类设计工具。

美国在今年7月向荷兰施压，要求其禁止ASML Holding NV向中国出售生产全球大量晶片所需的主流技术。

据了解，美国官员正游说荷兰政府禁止阿斯麦出售一些旧款的深紫外线光刻机（DUV）。

这些机器比先进技术落后了一代，但仍然是制造汽车、手机、电脑乃至机器人所需的某些非先进晶片的最常用设备。

知情人士称，美国的首要目标是禁售最先进的DUV技术，即浸没式光刻机。（综合报道）